本公司的磁控溅射镀设备有以下几大特点：1） 膜厚可控性和重复性好，能够可靠的镀制欲定厚度的薄膜，并且，溅射镀膜可以在较大的表面上获得厚度均匀的膜层；2）薄膜与基片的附着力强，并且部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原子相互溶合的伪扩散层；3）可以制备特殊材料的薄膜，可以制膜层可以使用不同的材料同时溅射制备混合膜、化合膜，还可溅射成TiN仿金膜；4）膜层纯度高，溅射膜层中不会混入坩锅加热器材料的成份。

    本公司拥有**完善的售后服务体系，使用本公司设备可免费提供技术工、操作工培训和**的生产工艺。