CVD后清洗：除去CVD过程中的颗粒。 附件及工具的清洗：除去表面所有的沾污物。 硅片清洗设备 可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如：RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。 全自动硅片清洗机 手动硅片清洗机 附件及工具清洗设备 石英管清洗机 酸碱清洗台 有机化学超净工作台 部件清洗台 氮气储存柜 硅片清洗设备特点 手动硅片清洗设备。济宁万和超声电子设备有限公司 可根据不同的清洗工艺配置各种相应的清洗功能槽。

超声波电子、光学清洗机：

     本系列超声波清洗机采用编心轮等传动装置，带动固定在机架上的工装上下运动，消除了由于超声波振幅偏差产生的清洁度不一致的缺陷。具有加热、定时、功率可调、循环过滤等功能。主要用于电子、光学等要求清洁度较高的行业，如半导体器件、石英晶体、电路板、压电陶瓷、磁性材料、硅片、光学玻璃等。

技术参数：

超声功率：1～3KW

超声频率：28～60KHz

加热功率：2～6KW

定时范围:0～99分钟

晃动频率:20～30次/分

上下振幅:30mm

电源：220V/380V   50Hz

制作要求：可根据用户的需要制做。

浸没式超声波清洗机：

本系列浸没式超声波清洗机也称投入式超声波清洗机、超声波振板、超声波振盒，是根据用户实际情况制作的，采用**不锈钢，焊接绝密，不渗水，换能器采用进口胶粘接及螺钉固定的方法，保证换能器头不脱落，这样大大延长了换能器的使用寿命，清洗效果也有了显著提高。主要在药机行业、制药行业的清洗线上配套使用，同时也在电子、机械、化工、食品等行业的清洗线上配套使用，还可单槽内壁使用。