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信息标签:含钴无槽丝锥/HSSE高速钢无槽丝攻,供应,五金工具,机械五金件
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含钴无槽丝锥/HSSE高速钢无槽丝攻,TiC(碳化钛)、TiN(氮化钛)等坚硬物质的涂层方法大致有两种,化学气相沉积法(CVD法)和物理气相沉积法(PVD法)。
化学气相沉积法的温度为900-1000℃,已超过了高速钢的回火温度,所以不能用于高速钢的表面涂层。
物理气相沉积法温度较低,在500℃以下,适合对高速钢丝攻、铣刀的涂层,物理气相沉积法中**有代表性,**常用的是HCD离子电镀工艺。
HCD离子电镀工艺的基本过程是:把涂层材料钛(TiN)放于高真空槽内的坩锅中,用电子射线让安熔解蒸发并与氮氧反应,使之在已预热且受负电压作用下的刀具表面上生成细密,牢固的氮化钛(TiN)涂层,TiN涂层为金黄色,与刀具母体的密著性很好。
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