品牌:铼因
发货:3天内
信息标签:钨铼靶材 钨铼溅射靶材,供应,冶金矿产,其他未分类
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钨铼配比:WRe3%, WRe5% ,WRe25%, WRe26%
尺寸范围:厚(0.2-20)×宽(≯500)×长(≯1000)
我司采用固液法混料提高铼的均匀性,同时通过多次锻打和退火提高密度和改善组织,提高阳极靶的使用性能和寿命。
工艺流程:配粉→压制→烧结→锻打→退火→机加工→动平衡→真空除气→包装
用途
钨具有高熔点,且被高速电子束照射时可以产生X射线,因此常被用作各种X射线管的X射线发生源,而钨铼靶材兼具高强度、韧性、耐热性以及高精度等优点,同时支持高功率电子束,常被用于医用X射线管。同时钨铼靶还广泛应用于磁控溅射中。