价格:未填
品牌:纽瑞德特种气体
发货:3天内
信息标签:99.999%(5N)四氟化碳气体_高纯四氟化碳价格优惠！,供应,化工,其他未分类

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纽瑞德特气高纯四氟化碳(www.qiti88.com)参数

产品分类：四氟化碳
纯度：99.999%（5N）
包装：钢质无缝气瓶
CAS:75-73-0
EINECS:200-896-5
分子式：CH4

其它参数：
熔点-183.6℃，
沸点-128.1℃，
液体密度（-130℃）1.613g/cm3，
液体折光率（-173℃）1.515，
固体转变点72.2K，
临界温度-45.67℃，
临界压力3.73MPa，
临界密度7.1dm3/mol，
标准摩尔生成焓-932.31 kJ/mol，
标准摩尔生成熵261.04J/（mol?K），
标准摩尔自由能-929.84 kJ/mol，
标准摩尔生成自由能-887.41 kJ/mol。

序号	名称	化学式	纯度(%)	压力(Mpa)	充装量(m3/kg)	阀门|螺纹出口	钢瓶容积(L)	钢瓶尺寸(cm)	钢瓶皮重(kg)
1	四氟化碳/R14	CF4	99.999	4	28公斤	PX-32|G5/8	40	29×145	50
2	四氟化碳/R14	CF4	99.999	4	30公斤	CGA580	44	29×145	53
3	四氟化碳/R14	CF4	99.999	4	5公斤	PX-32|G5/8	8	22×70	10

产品用途：
在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。氟化碳是目前微电子工业中用量**的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-H2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

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