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ABM fg MASK Aligner uv光刻机紫外

发布时间:2015-11-12 16:51:30 产品编号:GY-5-65179722 分享

价格:未填
品牌:ABM inc
发货:3天内
信息标签:ABM fg MASK Aligner uv光刻机紫外,供应,仪器仪表,试验机

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ABM fg MASK Aligner uv光刻机/紫外曝光机

ABM inc | Mask Alignment Systems掩模对准系统

· Table-Top Configuration

· Adjustable Vacuum Contact Or Proximity Printing

· Precision Alignment Module For Piece Parts Up to 8" Square, .005" to .3" Thick

· Top (2" to 10") And Bottom (2" to 8") Vacuum Mask Holders

· Fixed Level Or Wedge Compensation (Planarizing) Vacuum Chucks

· Uniform/Collimated Exposure Beams, Near UV, Mid UV, Deep UV

· 2-Channel 200 To 2,000 Watt Intensity Controlling Power Supplies

· Splitfield CCD/TV Alignment Systems/Microscopes, Single Field Zoom &

High Magnification Microscopes

· Infrared Backside Alignment Viewing, Single or Splitfield

· Standard Support And Vibration Isolation Tables

ABM uv光刻机/紫外曝光机线宽制备能力
截止到2012年1月，ABM公司在**范围售出了500多台光刻机，50多台单独曝光系统。**的客户包括美国航天局NASA和INTEL、哈佛大学、LG、美国海军实验室、菲利普、惠普、3M等，ABM在中国各地也拥有不同领域的客户，包括众多的工厂、**大学和研究所等。

光刻线条特征尺寸：
  应用实例1：深紫外光源下0.25um线条
  Scanning Electron Micrographs 电子显微镜图像
  Feature Sizes图像尺寸0.25微米线条
  采用TOK DUV 光刻胶，200nm光学镜，光刻胶厚度0.45微米。曝光时间40秒。

  应用实例2：近紫外光源下0.6um线条
  Scanning Electron Micrograph Feature Sizes: 0.5 um
  采用AZ PLP 50XT 光刻胶
  近紫外光源，曝光时间3秒，显影时间35秒。

  应用实例3：接近式样曝光0.8um线条
  Scanning Electron Micrograph Feature Sizes: 0.8 um, 50um gap
  近紫外光源，接近式曝光50um, 特征尺寸0.8um。

联系方式

公司:米力光国际贸易有限公司
状态:离线发送信件
姓名:周先生(先生)
电话:18016079478
手机:18016079478
地区:上海-闵行区
地址:上海市闵行区江协路52弄24号

邮编:201112
商铺:http://m.ceoie.com/micforce/

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