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多晶硅超声波清洗机是一种半导体晶片清洗设备，广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺，可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。