半导体清洗超纯水设备制备工艺：

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺) 
 

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥16MΩ.CM）(**工艺)

3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(**工艺) 

半导体清洗超纯水设备应用场合：

1.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸  盐配液 
2.显像管和阴极射线管生产、配料用纯水 
3.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 
4.液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液 
5.晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
6.集成电路生产中高纯水清洗硅片 
7.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

8.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏 
9.高品质显像管、萤光粉生产

10.半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗 
11.超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料 
12.实验室和中试车间

13.汽车、家电表面抛光处理

14.光电产品、其他高科技精微产品