磁控溅射镀膜生产线主要用于压加力板材、玻璃、陶瓷、手机壳、电脑、PC、PET等表面磁控溅射高质量、多功能金属膜、防干扰电磁屏蔽膜（EMI）、反应膜、复合膜、透明导电膜(ITO)、抗反射膜（AR）、增反射膜等。具有大吞吐量连续式磁控金属化生产，采用同行业**的生产工艺，极大地提高了膜层与工件的结合力、附着力。连续式自动生产线保证了产品的一致性与稳定性，全制程无废气、废水排放，产品符合欧洲环保法要求。
特点及基本参数
●卧式线体结构，可实现单面同时镀膜
●生产效率,**速度达1分钟/节拍
●模组化设计,维护方便
●镀膜工艺成熟,成品率高
●直流磁控溅射阴极可随客户要求选择
●真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵(分子泵)组成
●线体尺寸可随客户要求定做
