由于纳米氧化铈（VK-CE01 30nm）具有强氧化作用，作为层间二氧化硅介电层抛光的研磨粒子具有平整质量高，抛光速率快，选择性好的优点。纳米氧化铈粒子比二氧化硅粒子柔软，在抛光过程中，不容易挂上玻璃抛光面，而且具有抛光速率快的优点，这主要是纳米氧化铈粒子在抛光过程中所起的化学作用。
首先纳米氧化铈粒子通过化学反应与抛光表面Si之间形成Ce-O-Si键，纳米氧化铈粒子便把玻璃表面的部分SiO2撕咬下来，进入溶液中；经过分散后，二氧化硅粒子又从二氧化铈粒子表面脱落下来，Ce-O-Si键的形成与Si-O-Si键的断裂影响着抛光速率，化学解聚作用和机械撕咬作用同时影响着Si-O-Si键的断裂。
